Brasileiros que se destacaram em projetos nas áreas de ciência e tecnologia nos Estados Unidos foram os primeiros homenageados no recém criado “Prêmio Diáspora Brasil – O Talento Brasileiro no Mundo”. A cerimônia de entrega aconteceu no dia 17 de junho Palácio do Itamaraty, em Brasília, e foi presidida pelo Ministro de Estado das Relações Exteriores, Embaixador Luiz Alberto Figueiredo Machado.
O Prêmio é resultado de parceria entre a Agência Brasileira de Desenvolvimento Industrial (ABDI), o Ministério das Relações Exteriores e o Ministério do Desenvolvimento, Indústria e Comércio Exterior. A iniciativa visa a reconhecer brasileiros que obtiveram destaque na area de ciência, tecnologia e inovação, ao criar soluções para a indústria e para a economia, promovendo a imagem do Brasil no exterior como sociedade inovadora e economia do conhecimento.
Em sua primeira edição, a premiação teve por foco brasileiros radicados nos Estados Unidos. Receberam menções honrosas por seu trabalho, os brasileiros José Nelson Onuchic (Física, química, astronomia e astrobiologia – Rice University – Houston, Texas) e Marcelo Nóbrega (Genética Humana – Universidade de Chicago – Chicago, Illinois).
Na categoria ‘Destaques da Rede Diáspora Brasil’ foram premiados os brasileiros: Cristina Caldas Ramos ( PUBBoston/Fapesp/CsF. Boston, MA); Eliseu Ortega De Oliveira (BEN-DC e Georgetown University – Washington, DC)
Como profissionais do ano na área de tecnologia e informação foi premiada Duilia Fernandes de Mello (Astrofísica Extragaláctica. Professora Catholic University of America e Pesquisadora da NASAGSFC. Baltimore, MD); na área de saúde foi premiado: Claudio Antonio Pinho Joazeiro (Biotecnologia – The Scripps Research Institute – San Diego, CA).
